Elaboration de films minces de TiO2 par APCVD: Optimisation des propriétés optoélectroniques et structurales pour applications photovoltaîques

الموضوعات

علوم تطبيقية وتكنولوجية

الملخص

Ce travail porte sur l’élaboration, la caractérisation et l’application des films minces du TiO2 déposés par la technique APCVD.Dans une première partie, nous nous sommes intéressés à l’élaboration des films minces de TiO2 et à la caractérisation de leurs propriétés structurales, électriques et optiques en vue de l’optimisation des paramètres conduisant aux meilleures performances de tels films pour une application photovoltaïque. Dans une deuxième partie, nous nous sommes intéressés à l’évaluation de la contribution de ces couches de TiO2 déposées par APCVD dans l’amélioration du rendement . des cellules solaires au silicium multicristallin, autrement dit, le gain en rendement qu’on peut atteindre en utilisant la technologie APCVD. Selon nos résultats, cette technologie simple et peu coûteuse induit 14.26% de rendement de conversion avec un gain de +3% absolu par rapport à lacellule de référence (sans couche antireflet). Ces résultats encourageants prouvent l’efficacité de la méthode APCVD pourl’amélioration du rendement des cellules solaires au silicium .

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التعريف والنوع

رقم الوثيقة

fe9643a2-1b4a-4aff-a8f4-f15eac5afc50

رقم العقد

0

نوع الوسائط

Crawler

نوع المحتوى

الرسائل العلمية

صيغة المصدر

رسائل دكتوراة

نوع الملف

pdf text

أسماء الملفات

312213_1.pdf

بيانات النشر

ألقاب المؤلفين

[{"name_ar":"Belkaid Mohammed Said ","title_ar":"اشراف","title_en":"Supervision"},{"name_ar":"Dalila Hocine","title_ar":"اعداد","title_en":"Preparation"}]

اللغة

French

المصدر والدورية

اسم المصدر

Elaboration de films minces de TiO2 par APCVD: Optimisation des propriétés optoélectroniques et structurales pour applications photovoltaîques

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ترجمة الملخص

This work deals with the elaboration, characterization and application of the TiO2 thin films deposited by APCVD technique. In the first part, we were interested in the elaboration of TiO2 thin films and characterization of their structural, electrical and optical properties for the optimization of parameters leading to the best performances of such films for a photovoltaic application. In the second part, we were interested in the evaluation of the contribution of these layers of TiO2 deposited by APCVD on the enhancement of efficiency η of multicrystalline silicon solar cells, in other words, the gain in efficiency that we can achieve using the APCVD technology. From our results, this simple and low cost technology induces a 14.26% conversion efficiency which is a gain of +3% absolute in comparison to reference cell (without antireflection coating). These encouraging results prove the effectiveness of the APCVD method for efficiency enhancement in silicon solar cells.

إشراف وإعداد

الإشراف

Belkaid Mohammed Said

الإعداد

Dalila Hocine

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