Calcul de la fonction de distribution du microchamp électrique d'un plasma soumis sous un champ magnétique extérieur
Khadra Arif, Chenini Keltoum
كلية العلوم التكنولوجية وعلوم المادة-جامعة قاصدى مرباح ورقلة-جامعة قاصدى مرباح ورقلة · الجزائر
الموضوعات
علوم بحتة وطبيعية
الملخص
Le plasma est un milieu très intéressant à étudier. Le diagnostic des caractéristiques de ce milieu nécessite l’étude desprofils des raies spectrales émis par ce milieu. Le calcul et l’étude des profils de raie sont des moyens importants, et dansce cas le calcul de la fonction de distribution du microchamp dans les plasmas est demandé.Le champ magnétique influe sur les niveaux d’énergie d’un émetteur (atome, ion…etc), et donc influe directement sur leprofil. Un plasma soumis sous un champ magnétique est influencé strictement par ce champ, par conséquent la fonction dedistribution du microchamp électrique dans un plasma soumis sous un champ magnétique extérieur est liée à ce champ. Dans notre travail nous avons calculé, pour la première fois, la fonction de la distribution du microchamp électriquedans un plasma soumis sous un champ magnétique extérieur, on négligeant l’interaction entre les ions par l’utilisation del’approximation de Holtsmark.Le résultat de la fonction de distribution du microchamp obtenue montre que le champ magnétique B influesur la relation de cette fonction. The plasma is a very interesting medium to study. The diagnosis of the characteristics of this medium requires the study of the spectral lines shapesemitted bythis medium. The calculation andthe study of these profilesarean important means, andat this case,the calculation of the distribution function of theelectricmicrofield in plasmasis required.The magnetic field influencesat the energy levels of aemitter(atom, ion... ), soitinfluences directly on thespectral line shapes. Aplasma subjected under a magnetic field is influenced strictly by this field, consequently the distribution function of theelectric microfield in plasma subjected under an external magnetic fieldis related to this magnetic field.Inourwork we calculated, for the first time, the distribution function of the electric microfield in plasma subjected by an external magnetic field, we have neglected the interaction between the ionsusing theHoltsmark approximation.The result of the distribution function of theelectric microfield obtained watch that the magnetic field B influences at this function. Key words:Magnetized plasma, Spectral line shapes, electric microfield distributionfunction,Holtsmark approximation.
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- f4ffed47-b529-4b34-ba0c-c51d41c049af
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- الرسائل العلمية
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- ألقاب المؤلفين
- [{"name_ar":" Khadra Arif","title_ar":"اعداد","title_en":"Preparation"},{"name_ar":"Chenini Keltoum","title_ar":"اشراف","title_en":"Supervision"}]
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- Calcul de la fonction de distribution du microchamp électrique d'un plasma soumis sous un champ magnétique extérieur
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- البلازما الخاضعة لحقل مغناطيسي خارجى, تقريب Holtsmark, خطوط الطيف, دالة توزيع الحقل الكهربائي الموضعي
إشراف وإعداد
- الإشراف
- Chenini Keltoum
- الإعداد
- Khadra Arif
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