La Technologie des FinFETs
ارزقي بن فضيلة , كاتية حروش
كلية هندسة الكترونية ومعلومات-جامعة مولود معمري - تيزي وزو · الجزائر
الموضوعات
علوم تطبيقية وتكنولوجية
الملخص
A chaque nouvelle génération de transistor la réalisation du défi lancé par la loi de Moore apparaît comme un problème difficile à résoudre. Respecter la loi de Moore nécessite un compromis complexe entre la physique, la technologie et la rentabilité. Ainsi la réduction de la taille des TMOS de technologie conventionnelle (MOSFET Bulk) approche de ses limites. En effet les questions de mise à l’échelle conduisent à des effets parasites. Bien que ces défis aient augmentés au fil du temps, une solution bien adaptée a consistée à concevoir de nouvelles architectures basées sur la technologie SOI (Silicon On Insulator) a pour but de compenser ces effets néfastes. La technologie SOI permet de réaliser des transistors multiple-grille qui représentent les dispositifs les plus prometteurs pour succéder à la technologie MOS Bulk. On cite entre autres le transistor FinFET, ce composant a en effet une bonne compatibilité avec les chaines de fabrication actuelles de l’industrie intégrant ces nouveaux dispositifs. Il se pose alors naturellement le problème de la conception de circuits intégrant ces nouveaux dispositifs.
روابط وملفات
التعريف والنوع
- رقم الوثيقة
- 100925c5-b39b-43a7-9a24-0942191a8bcb
- رقم العقد
- 0
- نوع الوسائط
- Crawler
- نوع المحتوى
- الرسائل العلمية
- صيغة المصدر
- ماستر (LMD)
- نوع الملف
- pdf text
- أسماء الملفات
- 2081194_1.pdf
بيانات النشر
- ألقاب المؤلفين
- [{"name_ar":"ارزقي بن فضيلة ","title_ar":"اعداد","title_en":"Preparation"},{"name_ar":"كاتية حروش","title_ar":"اشراف","title_en":"Supervision"}]
- اللغة
- French
المصدر والدورية
- اسم المصدر
- La Technologie des FinFETs
المحتوى والصفحات
- عدد الصفحات
- 0
إشراف وإعداد
- الإشراف
- كاتية حروش
- الإعداد
- ارزقي بن فضيلة
الاقتباسات الببليوغرافية
APA
MLA