Etude des conditions optimales pour le contrôle des décharges plasma double fréquence à couplage capacitif
Arslane Boudehene Stambouli, Mouna Ait Belkacem, Rafik Benalial
كلية العلوم-جامعة مولود معمري - تيزي وزو · الجزائر
الموضوعات
علوم بحتة وطبيعية
الملخص
La fabrication assistée par plasma englobe une vaste gamme d'applications industrielles et de traitement de surface (gravure, dépôt,...). Elle a un impact direct sur l'économie mondiale dans différents aspects de l'industrie des hautes technologies.L'utilisation de ces procédés nécessite un contrôle au niveau des paramètres du Plasma, tels que le déphasage (_), la capacité de blocage(Cb), les amplitudes de voltages (V) …etc. L'avantage de la décharge plasma double fréquence à couplage capacitif est qu'il peut permettre le contrôle de l'énergie ionique pendant le processus de dépôt en couche mince sous certaine condition entrainant l'effet de l'asymétrie électrique.On présente dans ce travail une étude paramétrique dans une décharge double fréquence par la méthode PIC-MCC. Les résultats obtenus sont présentés et discutés
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التعريف والنوع
- رقم الوثيقة
- 0bfae93d-d4c1-4dc8-839c-4edd5adcf4e2
- رقم العقد
- 0
- نوع الوسائط
- Crawler
- نوع المحتوى
- الرسائل العلمية
- صيغة المصدر
- ماستر (LMD)
- نوع الملف
- pdf text
- أسماء الملفات
- 780432_1.pdf
بيانات النشر
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- اللغة
- French
المصدر والدورية
- اسم المصدر
- Etude des conditions optimales pour le contrôle des décharges plasma double fréquence à couplage capacitif
المحتوى والصفحات
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- كلمات الباحثين
- Cell Asymétrie électrique
إشراف وإعداد
- الإشراف
- Arslane Boudehene Stambouli, Rafik Benalial
- الإعداد
- Mouna Ait Belkacem
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